無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技有限公司新物理氣相沉積設(shè)備、新化學(xué)氣相沉積設(shè)備和干法刻蝕設(shè)備的研發(fā)項(xiàng)目驗(yàn)收公示

根據(jù)《國(guó)務(wù)院關(guān)于修改<建設(shè)項(xiàng)目竣工環(huán)境保護(hù)管理?xiàng)l例>的決定》（國(guó)務(wù)院令第682號(hào)），以及環(huán)保部《關(guān)于發(fā)布<建設(shè)項(xiàng)目竣工環(huán)境保護(hù)驗(yàn)收暫行辦法>的公告》（國(guó)環(huán)規(guī)環(huán)評(píng)[2017]4號(hào)），現(xiàn)將無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技有限公司新物理氣相沉積設(shè)備、新化學(xué)氣相沉積設(shè)備和干法刻蝕設(shè)備的研發(fā)項(xiàng)目竣工環(huán)境保護(hù)驗(yàn)收內(nèi)容公示如下：

項(xiàng)目名稱(chēng)：新物理氣相沉積設(shè)備、新化學(xué)氣相沉積設(shè)備和干法刻蝕設(shè)備的研發(fā)項(xiàng)目

地點(diǎn)：無(wú)錫市新吳區(qū)長(zhǎng)江南路35-312號(hào)廠房

建設(shè)單位：無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技有限公司

建設(shè)內(nèi)容：竣工驗(yàn)收?qǐng)?bào)告，詳見(jiàn)附件

公示時(shí)間：2023年10月26日至2023年11月22日

公示期間：對(duì)上述公示內(nèi)容如有異議，請(qǐng)以書(shū)面形式反饋，個(gè)人須加蓋公章。

驗(yàn)收正文

專(zhuān)家意見(jiàn)